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吉林大學(xué)團(tuán)隊(duì)發(fā)表金剛石 n 型摻雜最新成果

2025云南晶體大會(huì)前瞻|山東大學(xué)張雷 :大尺寸氮化鎵和氮化鋁晶體生長研究新進(jìn)展

2025云南晶體大會(huì)前瞻|山東大學(xué)楊祥龍：8/12英寸碳化硅單晶襯底材料的研究進(jìn)展

2025云南晶體大會(huì)前瞻|北京大學(xué)王新強(qiáng)：氮化物半導(dǎo)體的大失配外延及其器件研究

2025云南晶體大會(huì)前瞻|?廈門大學(xué)梅洋：GaN基VCSEL技術(shù)進(jìn)展

2025云南晶體大會(huì)前瞻|?山東大學(xué)陳秀芳：碳化硅單晶材料技術(shù)及應(yīng)用

2025云南晶體大會(huì)前瞻|?北京大學(xué)孫棟：外爾半導(dǎo)體Te--新一代中紅外半導(dǎo)體器件材料

2025云南晶體大會(huì)前瞻|西安電子科技大學(xué)陶鴻昌：氧化鎵異質(zhì)外延成核調(diào)控及肖特基二極管（SBD）勢(shì)壘均勻性研究

2025云南晶體大會(huì)前瞻|廈門大學(xué)盧衛(wèi)芳：GaN/InGaN基核-殼納米結(jié)構(gòu)選區(qū)外延及其Micro-LED器件制備研究

2025云南晶體大會(huì)前瞻|廣東工業(yè)大學(xué)張紫輝：GaN功率半導(dǎo)體器件仿真建模與制備研究

2025云南晶體大會(huì)前瞻|北京大學(xué)王嘉銘：III族氮化物AlGaN基紫外發(fā)光器件結(jié)構(gòu)堆垛研究

2025云南晶體大會(huì)前瞻|云南大學(xué)楊杰：III-V族和IV族半導(dǎo)體晶片及其外延材料的缺陷溯源分析

2025云南晶體大會(huì)前瞻|云南師范大學(xué)郭杰：鍺硫?qū)倩衔颎e-VIA（GeS/GeSe/GeTe）二維材料的電子結(jié)構(gòu)和光學(xué)特性研究

2025云南晶體大會(huì)前瞻|浙江大學(xué)杭州國際科創(chuàng)中心韓學(xué)峰：PVT法生長4H-SiC晶體的缺陷形成與摻雜機(jī)理研究

2025云南晶體大會(huì)前瞻|西安電子科技大學(xué)寧靜：超寬禁帶半導(dǎo)體范德華異質(zhì)結(jié)構(gòu)及器件研究

2025云南晶體大會(huì)前瞻|云南大學(xué)王茺：GaSb基異質(zhì)薄膜的磁控濺射生長機(jī)理及其光電探測(cè)性能研究

2025云南晶體大會(huì)前瞻|云南大學(xué)邱鋒：晶體本征缺陷的理論研究及晶片表面非故意缺陷的性能調(diào)控

Science Advances：南京大學(xué)聯(lián)合團(tuán)隊(duì)突破外延襯底限制，實(shí)現(xiàn)非晶襯底上高質(zhì)量半導(dǎo)體薄膜外延生長

2025云南晶體大會(huì)前瞻|云南大學(xué)史衍麗：1550nm InP/InGaAs 單光子探測(cè)器

2025云南晶體大會(huì)前瞻|南京大學(xué)修向前：氮化鎵襯底生長工藝及設(shè)備技術(shù)研究

深圳大學(xué)寬禁帶半導(dǎo)體功率器件劉新科研究員團(tuán)隊(duì)：通過PEALD-GaO?界面工程實(shí)現(xiàn)高性能垂直氮化鎵MOS電容器

廈門大學(xué)&廈門市未來顯示技術(shù)研究院團(tuán)隊(duì)基于氮化物表面電子態(tài)演化開發(fā)出Micro LED側(cè)壁鈍化新方法

2025云南晶體大會(huì)前瞻| 昆明理工大學(xué)鄧家云:磷化銦晶圓力學(xué)性能與加工性能研究

北京大學(xué)電子學(xué)院魏賢龍課題組在二維氮化硼的介電強(qiáng)度研究中取得重要進(jìn)展

北京大學(xué)許福軍、沈波團(tuán)隊(duì)成功實(shí)現(xiàn)高性能中波紫外發(fā)光器件制備

中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)在水陸兩棲紫外光電器件領(lǐng)域取得重要進(jìn)展

北京大學(xué)在IEEE ISPSD發(fā)表2項(xiàng)寬禁帶半導(dǎo)體功率器件重要技術(shù)進(jìn)展

Science Advances：南京大學(xué)聯(lián)合團(tuán)隊(duì)突破外延襯底限制，實(shí)現(xiàn)非晶襯底上高質(zhì)量半導(dǎo)體薄膜外延生長

中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)孫海定教授團(tuán)隊(duì)ACS Nano：用于皮膚健康防護(hù)的可穿戴水陸兩棲紫外線探測(cè)器

清華大學(xué)化學(xué)系團(tuán)隊(duì)合作開發(fā)出理想的極紫外（EUV）光刻膠材料

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