上海微電子裝備官方今日宣布，旗下的高亮度LED步進投影光刻機入選“上海設計100+”項目，據悉這次上海微電子裝備從1200多個申報項目中突圍，最終成功入選。
公開資料顯示，上海微電子裝備公司（SMEE）成立于2002年，主要致力于大規(guī)模工業(yè)生產的投影光刻機研發(fā)、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設計、制造、銷售及技術服務。公司產品可廣泛應用于IC制造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造領域。
本次入選的高亮度LED步進投影光刻機由上海微電子裝備自主研發(fā)，是目前我國首臺面向6英寸以下中小基底先進光刻應用領域的光刻機產品。
高亮度LED步進投影光刻機的成功研發(fā)，可以滿足HB-LED等領域單面或雙面的光刻工藝需求，解決了LED產業(yè)大翹曲藍寶石高分辨率、高拼接精度、大焦深、高產率的光刻需求，且支持藍寶石鍵合片特殊工藝。
自高亮度LED步進投影光刻機成功研發(fā)以來，先后榮獲“第十五屆中國國際工業(yè)博覽會銅獎”、“上海市專利新產品”、“第十三屆（2018年度）中國半導體創(chuàng)新產品和技術獎”、工信部第四批“制造業(yè)單項冠軍產品”等多項大獎。
