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中國(guó)科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所投影式光刻機(jī)采購項(xiàng)目（第二次）公開招標(biāo)公告

中國(guó)科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所投影式光刻機(jī)采購項(xiàng)目（第二次）公開招標(biāo)公告

俄羅斯完成首臺(tái)350nm光刻機(jī)開發(fā)，將批量生產(chǎn)

浙江一半導(dǎo)體項(xiàng)目，首臺(tái)光刻機(jī)成功搬入

浙江一半導(dǎo)體項(xiàng)目首臺(tái)光刻機(jī)成功搬入！

英特爾首批兩臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)投產(chǎn)，單季生產(chǎn)3萬片晶圓

日本加強(qiáng)出口管制！42家中國(guó)實(shí)體列入“黑名單”，涉及處理器、光刻機(jī)等領(lǐng)域

九奕半導(dǎo)體設(shè)備取得光刻機(jī)送料機(jī)構(gòu)專利，使硅片涂布更均勻

中芯微取得半導(dǎo)體生產(chǎn)制造用光刻機(jī)專利，可實(shí)現(xiàn)移動(dòng)目的

大族安萊微米級(jí)光刻機(jī)項(xiàng)目開工

粵芯半導(dǎo)體申請(qǐng)光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)方法專利，平衡晶圓中切割道與芯片的研磨速率

中芯國(guó)際申請(qǐng)光刻機(jī)焦距監(jiān)控相關(guān)專利，實(shí)現(xiàn)在線焦距監(jiān)控且對(duì)產(chǎn)品晶圓圖形影響小

尼康官宣旗下首款半導(dǎo)體后端工藝用光刻機(jī)

工信部推廣國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)，最小套刻精度≤8nm

冠石半導(dǎo)體入場(chǎng)首臺(tái)先進(jìn)電子束掩模版光刻機(jī)

三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻機(jī)

光刻機(jī)制造商ASML擴(kuò)建計(jì)劃獲表決通過

俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)制造完成：可生產(chǎn)350納米工藝芯片

宜興中車時(shí)代中低壓功率器件項(xiàng)目首臺(tái)光刻機(jī)搬入

ASML High-NA EUV光刻機(jī)取得突破，成功印刷10nm線寬圖案

國(guó)內(nèi)首臺(tái)大芯片先進(jìn)封裝專用光刻機(jī)交付入廠

中荷雙方重點(diǎn)就光刻機(jī)輸華和加強(qiáng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)合作等議題深入交換意見

ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

盛美上海：光刻機(jī)的購入選擇,KrF-line是首要目標(biāo)

ASML：多款光刻機(jī)2024年將不會(huì)獲得對(duì)華出口許可

美國(guó)施壓要求荷蘭停止向中國(guó)出口某型號(hào)光刻機(jī) 外交部回應(yīng)

全球半導(dǎo)體設(shè)備五強(qiáng)醞釀大變局

盛美上海：Track設(shè)備預(yù)計(jì)在明年年中有望完成與光刻機(jī)的對(duì)接工藝測(cè)試

俄羅斯明年開始生產(chǎn)光刻機(jī)！

ASML在中國(guó)的光刻機(jī)加上量測(cè)的機(jī)臺(tái)近1400臺(tái)！

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