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先鋒半導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)刻蝕機(jī)核心部件國(guó)產(chǎn)化，配套臺(tái)積電全球首條5nm產(chǎn)線

中微半導(dǎo)體首臺(tái)8英寸CCP刻蝕設(shè)備順利付運(yùn)

中國(guó)芯片刻蝕機(jī)第一人：77歲尹志堯12句話說透芯片制造

深度 | 中微半導(dǎo)體尹志堯：從刻蝕跨入化學(xué)薄膜賽道！業(yè)界：與應(yīng)材、泛林將痛快再戰(zhàn)一場(chǎng)

中微公司：公司12英寸高端刻蝕設(shè)備已應(yīng)用于5nm芯片生產(chǎn)

國(guó)產(chǎn)刻蝕設(shè)備進(jìn)軍5nm生產(chǎn)線！中微公司瞄準(zhǔn)世界科技前沿，踐行三維發(fā)展戰(zhàn)略

進(jìn)軍5nm 中微公司證實(shí)刻蝕機(jī)進(jìn)入國(guó)際客戶最先進(jìn)生產(chǎn)線

中微公司新一代刻蝕設(shè)備Primo Twin-StarR交付客戶投入生產(chǎn)

中微公司發(fā)布用于深紫外LED量產(chǎn)的MOCVD設(shè)備Prismo HiT3(TM)

原子級(jí)工藝實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖形結(jié)構(gòu)的要求

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