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TCL華星開發(fā)全新量子點圖案化技術(shù)：大于 1000PPI
TCL
華星
顯示技術(shù)
創(chuàng)新中心
新材料
新型
電沉積技術(shù)，
全色大面積量子點
QDs
圖案化彩膜
高性能
QLED
器件
制備
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2021-08-04 15:09
《自然》子刊：分子橋解決半導(dǎo)體缺陷，提高導(dǎo)電性及整體
性能
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2021-03-01 15:24
比亞迪啟動碳中和規(guī)劃研究！推出高
性能
碳化硅芯片
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2021-02-19 09:46
福建物構(gòu)所高
性能
層狀雜化鈣鈦礦鐵電半導(dǎo)體研究獲進展
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2021-01-26 09:52
InGaN μLED外部量子效率改進最新研究成果 有望消除高
性能
μLED發(fā)展瓶頸
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2020-07-27 14:59
中芯國際12nm工藝已開始試產(chǎn)：功耗降低20%、
性能
提升10%
中芯國際
12nm
工藝
評論 ?
2020-05-20 08:31
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