近日，中國招標(biāo)頭條公公服務(wù)平臺(tái)發(fā)布等離子體介質(zhì)刻蝕機(jī)中標(biāo)結(jié)果公告顯示，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“中微公司”）中標(biāo)華虹半導(dǎo)體（無錫）有限公司（以下簡(jiǎn)稱“華虹無錫”）12臺(tái)刻蝕機(jī)。

 

 

 

Source：全國招標(biāo)投標(biāo)公共服務(wù)平臺(tái)公告

 

信息顯示，中微公司本次中標(biāo)的12臺(tái)刻蝕機(jī)設(shè)備包括3臺(tái)鈍化膜等離子體刻蝕機(jī)、7臺(tái)氧化膜等離子體刻蝕機(jī)、2臺(tái)氮化硅等離子體刻蝕機(jī)。

 

中微公司主要從事高端半導(dǎo)體設(shè)備及泛半導(dǎo)體設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，是國內(nèi)高端微觀加工設(shè)備的知名企業(yè)之一。產(chǎn)品主要包括CCP刻蝕設(shè)備、ICP刻蝕設(shè)備、MOCVD設(shè)備等。