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ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

盛美上海：光刻機(jī)的購(gòu)入選擇,KrF-line是首要目標(biāo)

ASML：多款光刻機(jī)2024年將不會(huì)獲得對(duì)華出口許可

美國(guó)施壓要求荷蘭停止向中國(guó)出口某型號(hào)光刻機(jī) 外交部回應(yīng)

全球半導(dǎo)體設(shè)備五強(qiáng)醞釀大變局

盛美上海：Track設(shè)備預(yù)計(jì)在明年年中有望完成與光刻機(jī)的對(duì)接工藝測(cè)試

俄羅斯明年開(kāi)始生產(chǎn)光刻機(jī)！

ASML在中國(guó)的光刻機(jī)加上量測(cè)的機(jī)臺(tái)近1400臺(tái)！

中信證券：國(guó)產(chǎn)高端光刻機(jī)的發(fā)展有望獲得推動(dòng)，光刻機(jī)及半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈將有望同步受益

清溢光電；佛山生產(chǎn)基地項(xiàng)目將適時(shí)考慮引入電子束光刻機(jī)

俄羅斯開(kāi)發(fā)出可替代光刻機(jī)的芯片制造設(shè)備

中國(guó)半導(dǎo)體進(jìn)口創(chuàng)新高！狂買(mǎi)荷蘭光刻機(jī)

清溢光電上半年光刻機(jī)入場(chǎng) 擬15億擴(kuò)產(chǎn)半導(dǎo)體掩模版

日本與荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄，采購(gòu)ASML光刻機(jī)推進(jìn)2nm工藝

東南大學(xué)微納系統(tǒng)國(guó)際創(chuàng)新中心電子束光刻機(jī)采購(gòu)招標(biāo)公告（第三次）

南京航空航天大學(xué)無(wú)掩模版直寫(xiě)光刻機(jī)采購(gòu)公開(kāi)招標(biāo)公告

國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)再突破后，能實(shí)現(xiàn)7nm芯片量產(chǎn)？

外交部回應(yīng)荷蘭對(duì)華停止出售光刻機(jī) 希望各方獨(dú)立自主地作出決定

天津大學(xué)精儀學(xué)院無(wú)掩膜光刻機(jī)更正公告

銳石創(chuàng)芯濾波器生產(chǎn)基地項(xiàng)目一期首臺(tái)光刻機(jī)入廠

簡(jiǎn)述光刻機(jī)制造設(shè)備

鼎泰匠芯12英寸車(chē)規(guī)級(jí)功率半導(dǎo)體晶圓制造中心首臺(tái)ASML光刻機(jī)搬入

東南大學(xué)微納系統(tǒng)國(guó)際創(chuàng)新中心8寸光刻機(jī)采購(gòu)（二次）公開(kāi)招標(biāo)公告

北理重慶微電子研究院步進(jìn)投影光刻機(jī)采購(gòu)公開(kāi)招標(biāo)公告

大連理工大學(xué)激光直寫(xiě)光刻機(jī)系統(tǒng)采購(gòu)項(xiàng)目公開(kāi)招標(biāo)公告

東南大學(xué)微納系統(tǒng)國(guó)際創(chuàng)新中心8寸光刻機(jī)采購(gòu)公開(kāi)招標(biāo)公告

擺脫EUV光刻機(jī)限制！國(guó)內(nèi)首條光子芯片產(chǎn)線即將建成

EUV光刻機(jī)在3nm的新挑戰(zhàn)

突發(fā)！美國(guó)要求荷蘭、日本對(duì)華禁售DUV光刻機(jī)！

外媒：臺(tái)積電或?qū)⒃?024年引入阿斯麥最新一代極紫外光刻機(jī)

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