據(jù)塔斯社報道，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長 Vasily Shpak 表示，該設備可確保生產(chǎn) 350 納米工藝的芯片。

Shpak 表示，“我們組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機。作為澤廖諾格勒技術生產(chǎn)線的一部分，目前正在對其進行測試。”俄羅斯接下來的目標是在 2026 年制造可以支持 130nm 工藝的光刻機。

據(jù)悉，350 納米工藝的芯片現(xiàn)在仍然可以應用于汽車、能源和電信等多個行業(yè)。

據(jù)IT之家此前報道，俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所(IPF RAS) 曾于 2022 年宣布，正在開發(fā)俄羅斯首套半導體光刻設備，并對外夸下海口：這套光刻機能夠使用 7nm 生產(chǎn)芯片，可于 2028 年全面投產(chǎn)。

據(jù)介紹，他們計劃在六年內(nèi)制作出光刻機的工業(yè)原型，首先要在2024 年開發(fā)一臺 alpha 機器。這一階段的重點不在于其工作或解決的高速性，而在于所有系統(tǒng)的全面性。