氮化鎵具有優(yōu)異的材料特性，例如寬帶隙、高擊穿場強和高功率密度等。 氮化鎵器件在高頻率、高效率、高功率等應(yīng)用中具有廣闊的應(yīng)用前景。隨著GaN功率器件的性能提升，GaN與SiC共存領(lǐng)域的形勢將會發(fā)生重大變化。當前，以GaN和SiC為代表的國際第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，受政策、資本、技術(shù)、市場的“四輪驅(qū)動”，已經(jīng)實現(xiàn)了從研發(fā)到規(guī)模性量產(chǎn)的成功跨越，進入了產(chǎn)業(yè)化快速發(fā)展階段。世界各國以前所未有的力度扶持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，爭相搶跑第三代半導(dǎo)體。國際龍頭企業(yè)大力完善產(chǎn)業(yè)布局，強化競爭優(yōu)勢； 企業(yè)上下游深化戰(zhàn)略合作，擴大自身優(yōu)勢，搶占市場份額。在各方支持下，國內(nèi)SiC和GaN技術(shù)和產(chǎn)品也相繼獲得突破。

近日，第九屆國際第三代半導(dǎo)體論壇（IFWS）&第二十屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇（SSLCHINA）在廈門國際會議中心召開。期間在“氮化鎵功率電子器件”分會上，南方科技大學(xué)深港微電子學(xué)院院長、教授于洪宇帶來了“Si基GaN器件及系統(tǒng)研究與產(chǎn)業(yè)前景”的主題報告，分享了Si基GaN器件先進工藝研究進展、Si基GaN功率器件及其電源系統(tǒng)、Si基GaN射頻器件及其PA模塊、Ga2O3器件及GaN氣體傳感器。

GaN功率器件朝高功率密度、高頻、高集成化方向發(fā)展，擊穿電壓集中在<200V 和650V。目前GaN功率元件市場的發(fā)展主要由消費電子所驅(qū)動，核心在于快速充電器， 其他消費電子場景還包括D類音頻、無線充電等。許多廠商已將目光轉(zhuǎn)向工業(yè)市場，如電動汽車、數(shù)據(jù)中心電源、風(fēng)力發(fā)電等。商業(yè)GaN射頻器件目前主要集中在低頻、高功率，為進一步拓展應(yīng)用市場，未來將朝更高功率、更工作頻率方向發(fā)展。國防、5G、電信基礎(chǔ)設(shè)施是推動GaN RF發(fā)展的動力源泉。2022年GaN RF器件市場價值13億美元，預(yù)計到2028年將達到27億美元，2020年至2028年復(fù)合增長率為12%。

Si基GaN器件先進工藝方面，研究涉及極化和二維電子氣、導(dǎo)通機制及器件結(jié)構(gòu)，超低接觸電阻的源、漏極n型歐姆接觸，InAlN上的源、漏極歐姆接觸，超低接觸電阻的源、漏極p型歐姆接觸、低損傷GaN數(shù)字刻蝕技術(shù)、SiNx柵介質(zhì)層、柵介質(zhì)層和表面處理等。其中，研究提出了利用兼容CMOS工藝的TiAl合金層，氮化鎵基HTMT源漏歐姆接觸電阻實現(xiàn)0.063Ω·mm（非金工藝），刷新了世界紀錄，被遴選為IEEE EDL封面文章。研究提出兼容COMS工藝的低成本 Si/T_i5Al₁/TiN歐姆接觸結(jié)構(gòu)。實現(xiàn)了0.11 Ω·mm的超低歐姆接觸電阻值。利用透射電鏡（TEM）等技術(shù)手段深入分析了其形成優(yōu)異歐姆接觸的微觀機理，提出了該歐姆接觸結(jié)構(gòu)的形成機理。研究首次提出Mg/Pt/Au結(jié)構(gòu)的p型歐姆接觸工藝，并系統(tǒng)分析了其載流子輸運機制。 在雙溝道氮化鎵外延襯底上實現(xiàn)了目前報道的最低p型歐姆接觸電阻值12Ω?mm 。打破了GaN p-FETs及CMOS上p型歐姆接觸制備困難的壁壘，連續(xù)兩月被列為排名前三的popular paper。首次系統(tǒng)性研究InAlN材料體系原子層刻蝕技術(shù)，結(jié)合了不同時間O₂ plasma 和不同功率BCl₃  plasma，可以精確控制InAlN/GaN異質(zhì)結(jié)的刻蝕深度，大幅度優(yōu)化了刻蝕后的表面粗糙度。

Si基GaN功率器件及其電源系統(tǒng)方面，研究涉及Cascode路線，p-GaN路線，p-GaN柵的石墨烯應(yīng)用，U-GaN外延應(yīng)用于p-GaN柵極，p-GaN柵極擊穿機理探究，p-GaN柵HEMTs的關(guān)態(tài)擊穿特性優(yōu)化，再生長凹柵路線，基于GaN HEMTs的電源適配器等。研究通過優(yōu)化歐姆接觸工藝、場板工藝和Cascode封裝工藝，實現(xiàn)了器件導(dǎo)通電阻的降低和擊穿電壓的大幅提高，為高效率的電源模組實現(xiàn)提供了技術(shù)支撐，示范性應(yīng)用在國家電網(wǎng)的智能終端。

Si基GaN射頻器件及其PA模塊方面，研究涉及免刻蝕常關(guān)型器件制備-應(yīng)力工程，多指梳狀柵抑制短溝道效應(yīng)，應(yīng)力工程的可靠性驗證，GaN射頻功率放大器設(shè)計等。研究提出了一種寬帶拓展的兩級Doherty PA新結(jié)構(gòu)，通過降低載波PA的匹配網(wǎng)絡(luò)阻抗轉(zhuǎn)換比換取帶寬拓展，將Π型和T型網(wǎng)絡(luò)的結(jié)合，突破了傳統(tǒng)Doherty PA窄帶的限制，在5.15-5.85GHz頻段實現(xiàn)20dB增益和6dB回退效果的高線性度PA的效果。

GaN氣體傳感器及Ga₂O₃器件方面，研究涉及MIS-SBD、MOSFET仿真、常關(guān)型MOSFET等。研究顯示，采用Pt柵極可實現(xiàn)對H₂S, H₂等氣體實現(xiàn)低功耗、高靈敏度的快速檢測；采用TiO₂柵極實現(xiàn)超低濃度10-ppb級別的CO檢測，500-ppb測試下可實現(xiàn)4s的快速響應(yīng)；采用無柵金屬結(jié)構(gòu)，利用GaN本身的材料特性可實現(xiàn)柴油煙塵顆粒檢測，其中器件測試后可通過600℃熱氧化處理再生，且傳感性能無變化，證明GaN傳感器具有高溫?zé)岱€(wěn)定性和惡劣環(huán)境下的工作能力。

（備注：以上信息僅根據(jù)現(xiàn)場整理未經(jīng)嘉賓本人確認，僅供參考?。?/p>