日前，南大光電公告披露，公司作為牽頭單位，承擔的國家科技重大專項（02專項）“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”之“先進光刻膠產(chǎn)品開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化”項目（以下簡稱“項目”），今日收到極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝實踐管理辦公室下發(fā)的項目綜合績效評價結(jié)論書，項目通過了專家組驗收。

 

據(jù)介紹，項目總體目標是開發(fā)高端集成電路制造用ArF干式與浸沒式光刻膠成套工藝技術(shù)，形成規(guī)?；a(chǎn)能力；構(gòu)建與集成電路行業(yè)國際先進水平接軌的技術(shù)和管理人才團隊，建立完善的技術(shù)開發(fā)、生產(chǎn)運行、品質(zhì)管理、市場開拓運行體系和ArF光刻膠產(chǎn)業(yè)自主發(fā)展相應(yīng)的知識產(chǎn)權(quán)體系。

 

該項目分為三個子課題，其中公司控股子公司寧波南大光電承接的課題名為：ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。該子課題主要在以下方面開展研究：1、ArF光刻膠產(chǎn)品配方及工藝的開發(fā)；2、配方關(guān)鍵組分材料的開發(fā)；3、ArF光刻膠產(chǎn)品及關(guān)鍵組分的分析測試能力的研究；4、ArF光刻膠的產(chǎn)業(yè)化研究。

 

公告指出，專家組同意項目通過績效評價驗收。驗收專家組認為：1、光刻膠是集成電路生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵材料，通過本項目的實施，掌握了ArF干式和浸沒式系列光刻膠產(chǎn)品的原材料制備、配膠、分析檢測、應(yīng)用驗證等關(guān)鍵技術(shù)，在知識產(chǎn)權(quán)和人才培養(yǎng)等方面取得重要進展。形成了由51人組成的ArF光刻膠研發(fā)與生產(chǎn)管理團隊，建成了ArF光刻膠產(chǎn)品（包括干式和浸沒式）的質(zhì)量控制平臺、年產(chǎn)5噸的干式ArF光刻膠及年產(chǎn)20噸的浸沒式ArF光刻膠產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)線；建立了科研經(jīng)費管理相關(guān)的財務(wù)制度，并能有效執(zhí)行；申請專利91項，其中國內(nèi)發(fā)明專利81項，國際發(fā)明專利4項，實用新型專利6項（已授權(quán)），制定團體標準3項，研制新產(chǎn)品2項；實現(xiàn)ArF光刻膠產(chǎn)品銷售，完成了任務(wù)合同書規(guī)定的主要考核指標。這是我國集成電路關(guān)鍵材料自主創(chuàng)新的一個重要成果。

 

2、寧波南大光電已建成年產(chǎn)25噸ArF光刻膠產(chǎn)業(yè)化基地，具備進一步擴大生產(chǎn)的能力，建議抓住機遇，盡快擴產(chǎn)。

 

南大光電表示，ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點的集成電路制造工藝，廣泛應(yīng)用于高端芯片制造（如邏輯芯片、存儲芯片、AI芯片、5G芯片和云計算芯片等）。長期以來，國內(nèi)高端光刻膠市場長期為國外巨頭所壟斷，對我國芯片制造具有“卡脖子”風險。盡快實現(xiàn)先進光刻膠材料的全面國產(chǎn)化和產(chǎn)業(yè)化具有十分重要的戰(zhàn)略意義和經(jīng)濟價值。本項目研發(fā)任務(wù)的圓滿完成，預(yù)計將對公司光刻膠事業(yè)的未來發(fā)展產(chǎn)生積極影響。