國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示，深圳晶源信息技術(shù)有限公司申請一項名為“一種光刻膠模型優(yōu)化方法、程序產(chǎn)品、裝置和存儲介質(zhì)”的專利，公開號 CN 119180203 A，申請日期為2024年9月。

專利摘要顯示，本發(fā)明涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種光刻膠模型優(yōu)化方法、程序產(chǎn)品、裝置和存儲介質(zhì)，提供初始光刻膠模型，獲取初始光刻膠模型的多個待優(yōu)化初始參數(shù)；提供遺傳算法模型對全部待優(yōu)化初始參數(shù)進行迭代求解獲得優(yōu)化參數(shù)；提供適應(yīng)度函數(shù)組，適應(yīng)度函數(shù)組包括最小化誤差函數(shù)，還包括允許誤差損失函數(shù)、網(wǎng)格損失函數(shù)和系數(shù)損失函數(shù)中的至少一種；在迭代過程中，采用適應(yīng)度函數(shù)組對全部優(yōu)化參數(shù)進行評估獲得每一優(yōu)化參數(shù)的適應(yīng)度值，在執(zhí)行對優(yōu)化參數(shù)的下一輪迭代時，以適應(yīng)度值作為對應(yīng)優(yōu)化參數(shù)的優(yōu)化權(quán)重；滿足預設(shè)條件時，停止迭代并輸出遺傳算法模型最終求得的目標參數(shù)本發(fā)明提供的方法能夠解決模型中存在的過擬合現(xiàn)象和一致性不佳的技術(shù)問題。