天眼查顯示，北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司“工藝氣體噴嘴及半導體工藝腔室”專利公布，申請公布日為2024年10月18日，申請公布號為CN118792637A。

本發(fā)明公開一種工藝氣體噴嘴及半導體工藝腔室，所公開的工藝氣體噴嘴包括噴嘴主體（21）、第一凸起（22）和環(huán)狀部（23），所述噴嘴主體（21）具有第一端（213）和第二端（214），所述環(huán)狀部（23）環(huán)繞所述第二端（214）設置，所述第一凸起（22）設于所述噴嘴主體（21）上，并位于所述環(huán)狀部（23）的朝向所述第一端（213）的一側，所述第一凸起（22）背向所述環(huán)狀部（23）的表面（222）與所述噴嘴主體（21）形成反向導流槽（04）。此方案能解決相關技術在對半導體工藝腔室的內(nèi)壁進行清潔時存在清潔效果較差的問題。