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北方華創(chuàng)“工藝氣體噴嘴及半導(dǎo)體工藝腔室”專利公布

日期:2024-11-11 閱讀:265
核心提示:天眼查顯示,北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司工藝氣體噴嘴及半導(dǎo)體工藝腔室專利公布,申請(qǐng)公布日為2024年10月18日,申請(qǐng)公布號(hào)為

天眼查顯示,北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司“工藝氣體噴嘴及半導(dǎo)體工藝腔室”專利公布,申請(qǐng)公布日為2024年10月18日,申請(qǐng)公布號(hào)為CN118792637A。

本發(fā)明公開(kāi)一種工藝氣體噴嘴及半導(dǎo)體工藝腔室,所公開(kāi)的工藝氣體噴嘴包括噴嘴主體(21)、第一凸起(22)和環(huán)狀部(23),所述噴嘴主體(21)具有第一端(213)和第二端(214),所述環(huán)狀部(23)環(huán)繞所述第二端(214)設(shè)置,所述第一凸起(22)設(shè)于所述噴嘴主體(21)上,并位于所述環(huán)狀部(23)的朝向所述第一端(213)的一側(cè),所述第一凸起(22)背向所述環(huán)狀部(23)的表面(222)與所述噴嘴主體(21)形成反向?qū)Я鞑郏?4)。此方案能解決相關(guān)技術(shù)在對(duì)半導(dǎo)體工藝腔室的內(nèi)壁進(jìn)行清潔時(shí)存在清潔效果較差的問(wèn)題。

 

 

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