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北方華創(chuàng)“一種進氣管的清洗方法及半導體工藝設備”專利公布

日期:2024-10-25 閱讀:279
核心提示:天眼查顯示,北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司一種進氣管的清洗方法及半導體工藝設備專利公布,申請公布日為2024年9月24日,申請

天眼查顯示,北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司“一種進氣管的清洗方法及半導體工藝設備”專利公布,申請公布日為2024年9月24日,申請公布號為CN118692884A。

本申請公開了一種進氣管的清洗方法及半導體工藝設備,進氣管作為等離子體發(fā)生腔,并用于向工藝腔室通入等離子體以對晶圓進行工藝,清洗方法包括:在每完成預設數(shù)量的晶圓的工藝后,向進氣管通入第一清洗氣體,并加載射頻功率以激發(fā)第一清洗氣體;控制進氣管內的氣壓在第一預設壓力維持第一預設時間,以及在第二預設壓力維持第二預設時間,第一預設壓力與第二預設壓力的比值大于等于6且小于等于14,第一預設時間與第二預設時間的比值大于等于0.5且小于等于2。本申請通過對進氣管進行批次間清洗,可以對雜質顆粒進行清洗,避免產生花狀缺陷,由于析晶得到及時清洗,不需要經常停機更換進氣管,延長了進氣管的壽命,成本降低,提高了生產率。

 

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