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清純半導(dǎo)體“半導(dǎo)體功率器件及其制備方法”專利公布

日期:2024-07-08 閱讀:254
核心提示:天眼查顯示,清純半導(dǎo)體(寧波)有限公司半導(dǎo)體功率器件及其制備方法專利公布,申請(qǐng)公布日為2024年6月28日,申請(qǐng)公布號(hào)為CN11826

天眼查顯示,清純半導(dǎo)體(寧波)有限公司“半導(dǎo)體功率器件及其制備方法”專利公布,申請(qǐng)公布日為2024年6月28日,申請(qǐng)公布號(hào)為CN118263325A。

本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體功率器件及其制備方法,半導(dǎo)體功率器件包括:半導(dǎo)體襯底層;位于所述半導(dǎo)體襯底層一側(cè)的漂移層;位于所述漂移層中的柵極結(jié)構(gòu);阱區(qū),分別位于所述柵極結(jié)構(gòu)兩側(cè)的漂移層中;在所述漂移層中圍繞所述柵極結(jié)構(gòu)的底面和部分側(cè)壁的保護(hù)單元;所述保護(hù)單元包括:第一摻雜保護(hù)層,位于所述柵極結(jié)構(gòu)部分底部的漂移層中;第二摻雜保護(hù)層,位于所述柵極結(jié)構(gòu)的部分側(cè)壁和部分底部的漂移層中,所述第一摻雜保護(hù)層的導(dǎo)電類型和所述阱區(qū)的導(dǎo)電類型相同且和所述第二摻雜保護(hù)層的導(dǎo)電類型相反,所述第二摻雜保護(hù)層的摻雜濃度大于所述漂移層的摻雜濃度,所述第二摻雜保護(hù)層和所述第一摻雜保護(hù)層構(gòu)成PN結(jié)。提高了對(duì)柵介質(zhì)層的保護(hù)。

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