近日，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“中微公司”）的電感耦合等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備Primo nanova®系列第500臺(tái)反應(yīng)腔順利付運(yùn)國(guó)內(nèi)一家先進(jìn)的半導(dǎo)體芯片制造商。這是中微公司的又一重要里程碑，標(biāo)志著ICP刻蝕設(shè)備的刻蝕性能、機(jī)臺(tái)穩(wěn)定性和大規(guī)模量產(chǎn)能力已得到先進(jìn)邏輯和存儲(chǔ)客戶(hù)的廣泛認(rèn)可。本批次運(yùn)付的ICP刻蝕設(shè)備Primo nanova®系列產(chǎn)品，均來(lái)自該客戶(hù)的重復(fù)訂單。

ICP刻蝕設(shè)備Primo nanova®系列第500臺(tái)反應(yīng)腔付運(yùn)儀式現(xiàn)場(chǎng) 

此次付運(yùn)的Primo nanova®是中微公司針對(duì)先進(jìn)的工藝節(jié)點(diǎn)與生產(chǎn)線(xiàn)的各種關(guān)鍵應(yīng)用，基于電感耦合（ICP）技術(shù)研發(fā)的12英寸刻蝕設(shè)備，適用于先進(jìn)的邏輯芯片、DRAM存儲(chǔ)芯片以及3DNAND存儲(chǔ)芯片的刻蝕。

中微公司Primo nanova®

Primo nanova®最多可配置六個(gè)刻蝕反應(yīng)腔和兩個(gè)可選的除膠反應(yīng)腔。其中，刻蝕反應(yīng)腔采用對(duì)稱(chēng)設(shè)計(jì)，具有高反應(yīng)氣體通量，其內(nèi)部涂有的高致密性、耐等離子體侵蝕材料，減少刻蝕的負(fù)載效應(yīng)并保證了更高的工藝重復(fù)性和生產(chǎn)率。此外，Primo nanova®發(fā)射天線(xiàn)的低電容耦合 3D線(xiàn)圈設(shè)計(jì)，可實(shí)現(xiàn)均勻的等離子密度，減少等離子體對(duì)陶瓷頂蓋的轟擊。Primo nanova®的下電極采用了可實(shí)現(xiàn)多區(qū)動(dòng)態(tài)溫控的靜電吸盤(pán)，或可選用能實(shí)現(xiàn)更多區(qū)域溫度調(diào)節(jié)的 Durga 靜電吸盤(pán)，使其加工的晶圓內(nèi)的關(guān)鍵尺寸達(dá)到高度均勻性?？蛻?hù)表示非?？粗豍rimo nanova®在大規(guī)模生產(chǎn)中穩(wěn)定可靠的性能表現(xiàn)、顯著提升的生產(chǎn)率和相對(duì)較低的生產(chǎn)成本等方面的優(yōu)勢(shì)。 

憑借獨(dú)特的創(chuàng)新技術(shù)和差異化設(shè)計(jì)，中微公司等離子體刻蝕設(shè)備不斷擴(kuò)大市場(chǎng)占有率，在國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體前道設(shè)備行業(yè)占據(jù)領(lǐng)先地位。2023年，中微公司營(yíng)業(yè)收入約62.64億元，較2022年增加約15.24億元，同比增長(zhǎng)約32.15%。其中，2023年刻蝕設(shè)備收入約47.03億元，同比增長(zhǎng)約49.43%。占公司營(yíng)業(yè)收入約 75.1% 的刻蝕設(shè)備在2021年和2022年分別增長(zhǎng)了55.4%和57.1%。公司2023年新增訂單總金額約83.6億元，較2022年增加約20.4億元，同比增長(zhǎng)達(dá)32.3%，其中刻蝕設(shè)備新增訂單達(dá)69.5億元，同比增長(zhǎng)約60.1%。此外，中微公司綜合競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)不斷增強(qiáng)，各項(xiàng)營(yíng)運(yùn)KPI指標(biāo)已達(dá)到并在一些方面超過(guò)了國(guó)際先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)水平。在過(guò)去的十年中，中微公司的營(yíng)業(yè)收入一直以高于35%的年平均增長(zhǎng)速度持續(xù)增長(zhǎng)。 

中微公司副總裁、ICP產(chǎn)品部總經(jīng)理陳煌琳談及這一付運(yùn)里程碑時(shí)表示，中微公司始終緊跟先進(jìn)制程工藝發(fā)展的最前沿，堅(jiān)持原創(chuàng)創(chuàng)新設(shè)計(jì)，和國(guó)際領(lǐng)先的半導(dǎo)體客戶(hù)公司同步前行。中微公司總結(jié)過(guò)往經(jīng)驗(yàn)形成的“四個(gè)十大”的企業(yè)文化中，“產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的十大原則”首要強(qiáng)調(diào)的就是 “為達(dá)到設(shè)備的最高性能和客戶(hù)最嚴(yán)要求而開(kāi)發(fā)”。正是中微公司的領(lǐng)先技術(shù)及專(zhuān)業(yè)服務(wù)使我們的刻蝕設(shè)備產(chǎn)品贏(yíng)得了廠(chǎng)商的青睞，這是一種榮譽(yù)，更是一種動(dòng)力。未來(lái)，我們也將持續(xù)為客戶(hù)和市場(chǎng)提供性能優(yōu)越、高生產(chǎn)效率和高性?xún)r(jià)比產(chǎn)品，不斷促進(jìn)技術(shù)創(chuàng)新、引領(lǐng)行業(yè)發(fā)展的同時(shí)幫助客戶(hù)實(shí)現(xiàn)技術(shù)和盈利目標(biāo)。

關(guān)于中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司

AMEC中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（證券簡(jiǎn)稱(chēng)：中微公司，證券代碼：688012）致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領(lǐng)先的加工設(shè)備和工藝技術(shù)解決方案。中微公司開(kāi)發(fā)的等離子體刻蝕設(shè)備和化學(xué)薄膜設(shè)備是制造各種微觀(guān)器件的關(guān)鍵設(shè)備，可加工微米級(jí)和納米級(jí)的各種器件。這些微觀(guān)器件是現(xiàn)代數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，它們正在改變?nèi)祟?lèi)的生產(chǎn)方式和生活方式。中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于國(guó)際一線(xiàn)客戶(hù)先進(jìn)工藝的眾多刻蝕應(yīng)用，中微公司開(kāi)發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產(chǎn)的MOCVD設(shè)備已在客戶(hù)生產(chǎn)線(xiàn)上投入量產(chǎn)，目前已在全球氮化鎵基LED MOCVD設(shè)備市場(chǎng)占據(jù)優(yōu)勢(shì)地位。

 （來(lái)源：中微公司）