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北京大學(xué)申請(qǐng)GaN與碳納米管CMOS電路專利

日期:2023-12-18 閱讀:243
核心提示:據(jù)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公告,北京大學(xué)申請(qǐng)一項(xiàng)名為一種基于GaN與碳納米管的CMOS邏輯電路及其制備方法,公開號(hào)CN117238958A,申請(qǐng)日期

據(jù)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公告,北京大學(xué)申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種基于GaN與碳納米管的CMOS邏輯電路及其制備方法“,公開號(hào)CN117238958A,申請(qǐng)日期為2022年6月。

專利摘要顯示,本發(fā)明公開了一種基于GaN與碳納米管的CMOS邏輯電路及其制備方法。所述CMOS邏輯電路由制備在同一個(gè)芯片上的GaN n型晶體管和碳納米管p型晶體管組成,在襯底上依次層疊緩沖層、電子導(dǎo)電溝道層和勢(shì)壘層,GaN n型晶體管的源極、漏極和柵極結(jié)構(gòu)位于勢(shì)壘層上,柵極位于柵極結(jié)構(gòu)上,GaN n型晶體管上覆蓋鈍化層;碳納米管p型晶體管包括碳納米管溝道及其兩端的漏極和源極,在碳納米管溝道上依次為其柵介質(zhì)層和柵極;碳納米管p型晶體管位于GaN n型晶體管側(cè)面或者上方的鈍化層上。本發(fā)明的CMOS邏輯電路飽和電流密度大,工作速度高,可以作為GaN功率器件的外圍電路,實(shí)現(xiàn)單片集成,有效解決目前Si電路帶來的片間寄生電感問題,從而充分發(fā)揮出GaN功率器件的性能優(yōu)勢(shì)。

(來源:金融界)

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