8月24日晚間，中微公司披露半年報。

上半年，公司實現(xiàn)營收25.27億元，同比增長28.13%；凈利潤10.03億元，同比增長114.40%，處于公司預告區(qū)間內（9.8億元-10.30億元）；扣非凈利潤5.19億元，同比增長17.75%。

公司將凈利潤增長歸因于：本期收入和毛利增長下扣除非經常性損益的凈利潤較上年同期增加，以及公司于上半年出售了部分持有的拓荊科技股份有限公司股票，產生稅后凈收益4.06億元（非經常性收益）。

二季度，其營收13.03億元，環(huán)比增長6.57%；凈利潤7.28億元，環(huán)比增長164.23%；扣非凈利潤2.91億元，環(huán)比增長27.74%。

今年上半年，中微公司刻蝕設備收入增長約32.53%，達17.22億元。公司MOCVD設備收入增長約24.11%，達2.99億元；備品備件及服務收入增長約17.13%，達5.05億元。

此外，公司多產品線取得進展。

刻蝕設備技術中，公司12英寸高端刻蝕設備持續(xù)獲得國際國內知名客戶訂單。公司已研制成功5納米的刻蝕設備，并完成在先進邏輯芯片廠商的評估、并實現(xiàn)銷售；完成3納米刻蝕機Alpha原型機的設計、制造、測試及初步的工藝開發(fā)和評估。

公司等離子體刻蝕設備已大量用于先進三維閃存和動態(tài)隨機存儲器件的量產。此外，公司和國內外特殊器件制造客戶合作，在先進封裝、功率器件、微機電系統(tǒng)等領域持續(xù)獲得訂單。

MOCVD設備技術中，公司用于Mini-LED生產的MOCVD設備Prismo UniMax?已在領先客戶端大規(guī)模量產。硅基氮化鎵功率器件用MOCVD設備Prismo PD5?已在客戶生產線上驗證通過并獲得重復訂單。用于碳化硅功率器件外延生產的設備即將開展樣機在客戶端的驗證測試。

薄膜沉積設備技術中，公司已在短時間內實現(xiàn)多種LPCVD設備研發(fā)交付、ALD設備(原子層沉積)的重大突破，多款新產品研發(fā)項目在快速推進。

文章來源：科創(chuàng)板日報