據(jù)悉，近日，華中科技大學(xué)（華中大）披露，華中大機(jī)械學(xué)院劉世元教授團(tuán)隊(duì)成功研發(fā)我國(guó)首款完全自主可控的OPC軟件。

 

光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝，通過(guò)光刻成像系統(tǒng)，將設(shè)計(jì)好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會(huì)產(chǎn)生畸變。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必須采用一類名為OPC（光學(xué)臨近校正）的算法軟件進(jìn)行優(yōu)化。沒(méi)有OPC，所有IC制造廠商將失去將芯片設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)化為芯片產(chǎn)品的能力。

 

劉世元介紹，“沒(méi)有OPC，即使用了光刻機(jī)，也造不出芯片。”OPC軟件即“光學(xué)鄰近校正軟件”，是芯片設(shè)計(jì)工具EDA的一種。

 

目前，全球OPC工具軟件市場(chǎng)完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美國(guó)公司占領(lǐng)。如今，隨著華中大科研團(tuán)隊(duì)成功研發(fā)全國(guó)首款OPC軟件，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)空白，未來(lái)也將助力我國(guó)芯片制造業(yè)發(fā)展。

 

據(jù)悉，劉世元是華中大光學(xué)與電子信息學(xué)院、機(jī)械科學(xué)與工程學(xué)院雙聘教授，擔(dān)任華中大集成電路測(cè)量裝備研究中心主任，也是光谷實(shí)驗(yàn)室集成電路測(cè)量檢測(cè)技術(shù)創(chuàng)新中心主任。

 

劉世元表示，今后，將帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)加快產(chǎn)品推廣步伐，加快進(jìn)入國(guó)內(nèi)外芯片制造廠商市場(chǎng)，力爭(zhēng)成為全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈中重要的一環(huán)。