據(jù)無錫日報報道，華潤微電子迪思高端掩模項目奠基儀式近期在無錫高新區(qū)舉行。此次奠基的迪思高端掩模項目，投資約13億元，將建設40納米先進光掩模產(chǎn)線，助力企業(yè)進一步提高掩模制程能力，實現(xiàn)產(chǎn)能和技術水平的雙提升，同時還將填補國內(nèi)高端掩模代工領域的空白，為無錫加快打造集成電路地標產(chǎn)業(yè)注入新的動能。

“迪思高端掩模項目是華潤微電子強化科技創(chuàng)新的關鍵一步。華潤微電子執(zhí)行董事、總裁”李虹表示，掩模是IC制造的重要一環(huán)，是芯片下游產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)流程銜接的關鍵部分。迪思高端掩模項目落成后，無錫迪思微電子將成為國內(nèi)最大的開放式掩模工廠之一。下階段，企業(yè)將繼續(xù)扛好責任擔當、狠抓科技創(chuàng)新，加快高端掩模技術攻關，為促進創(chuàng)新鏈和產(chǎn)業(yè)鏈的高效協(xié)同、推動集成電路產(chǎn)業(yè)高質量發(fā)展作出新的更大貢獻。