據(jù)悉，晶盛機(jī)電積極布局“長(zhǎng)晶、切片、拋光、CVD”四大核心環(huán)節(jié)設(shè)備的研發(fā)，在半導(dǎo)體關(guān)鍵設(shè)備領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)國(guó)產(chǎn)化突破。公司通過(guò)承擔(dān)國(guó)家科技重大專項(xiàng)“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”項(xiàng)目的“300mm硅單晶直拉生長(zhǎng)裝備的開(kāi)發(fā)”和“8英寸區(qū)熔硅單晶爐國(guó)產(chǎn)設(shè)備研制”兩項(xiàng)課題，實(shí)現(xiàn)集成電路12英寸半導(dǎo)體長(zhǎng)晶爐的量產(chǎn)突破。

 

晶盛機(jī)電經(jīng)過(guò)多年的科研攻關(guān)和技術(shù)創(chuàng)新，已掌握了單晶硅生長(zhǎng)全自動(dòng)控制技術(shù)、熱場(chǎng)仿真技術(shù)、金剛線切片、研磨、雙面拋光、單面拋光、邊緣拋光等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，成功開(kāi)發(fā)了6-8英寸用晶體滾磨機(jī)、截?cái)鄼C(jī)、切片機(jī)、雙面研磨機(jī)、邊緣拋光機(jī)、單面拋光機(jī)、外延生長(zhǎng)、LPCVD等設(shè)備并形成銷(xiāo)售；同時(shí)成功開(kāi)發(fā)了12英寸用晶體滾圓磨機(jī)、截?cái)鄼C(jī)、雙面研磨機(jī)、邊緣拋光機(jī)、雙面拋光機(jī)、最終拋光機(jī)等設(shè)備。

 

在半導(dǎo)體8-12英寸大硅片設(shè)備領(lǐng)域，晶盛機(jī)電產(chǎn)品在晶體生長(zhǎng)、切片、拋光、外延等環(huán)節(jié)已基本實(shí)現(xiàn)8英寸設(shè)備的全覆蓋，12英寸長(zhǎng)晶、切片、研磨、拋光等設(shè)備也已實(shí)現(xiàn)批量銷(xiāo)售，產(chǎn)品質(zhì)量已達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。公司將繼續(xù)鞏固晶體生長(zhǎng)設(shè)備領(lǐng)域技術(shù)和規(guī)模優(yōu)勢(shì)，創(chuàng)造技術(shù)護(hù)城河，推動(dòng)新產(chǎn)品迭代，提升對(duì)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的引領(lǐng)能力，進(jìn)一步延伸產(chǎn)品體系，在晶體生長(zhǎng)、切片、拋光及CVD四大關(guān)鍵環(huán)節(jié)設(shè)備布局，實(shí)現(xiàn)設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)力國(guó)內(nèi)領(lǐng)先，高端市場(chǎng)占有率第一。

 

在碳化硅領(lǐng)域，晶盛機(jī)電的產(chǎn)品主要有碳化硅長(zhǎng)晶、拋光、外延設(shè)備以及6英寸導(dǎo)電型碳化硅襯底片。繼實(shí)驗(yàn)室成功長(zhǎng)出6英寸碳化硅晶體后，公司建立6英寸及以上尺寸碳化硅材料研發(fā)實(shí)驗(yàn)線，目前研發(fā)產(chǎn)品已通過(guò)部分下游客戶驗(yàn)證。同時(shí)，公司碳化硅外延設(shè)備已通過(guò)客戶驗(yàn)證，并實(shí)現(xiàn)批量銷(xiāo)售。