日前，DRAM廠商南亞科宣布，將在中國(guó)臺(tái)灣新北市新建一座12英寸晶圓廠，新廠將采用雙層無(wú)塵室設(shè)計(jì)，使用南亞科自主研發(fā)的10納米制程，設(shè)計(jì)采用EUV極紫外光生產(chǎn)技術(shù)，規(guī)劃月產(chǎn)能約4.5萬(wàn)片。今年底動(dòng)工，2024年開(kāi)始第一階段1.5萬(wàn)片量產(chǎn)，總投資額達(dá)新臺(tái)幣3000億元（約合人民幣694億元）。

 

南亞科董事長(zhǎng)吳嘉昭表示，該晶圓廠將以7年分三階段進(jìn)行投資，計(jì)劃2021年底動(dòng)工，2023 年底完工開(kāi)始試產(chǎn)，并于2024 年開(kāi)始第一階段量產(chǎn)，產(chǎn)出顆粒數(shù)將較現(xiàn)有產(chǎn)能增加。

 

此外，吳嘉昭強(qiáng)調(diào)南亞科目前也在全力發(fā)展DDR5以及LPDDR5高容量高速度的產(chǎn)品，希望通過(guò)先進(jìn)制程上的研發(fā)能力，使臺(tái)灣地區(qū)DRAM產(chǎn)業(yè)更健康穩(wěn)固地發(fā)展。