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西安電子科技大學(xué)許晟瑞：襯底工程對(duì)氮化物L(fēng)ED的影響研究

中鎵半導(dǎo)體劉強(qiáng)：面向氮化鎵同質(zhì)外延功率/光電器件應(yīng)用的氮化鎵單晶襯底制備技術(shù)研發(fā)進(jìn)展

晶盛機(jī)電：已掌握行業(yè)領(lǐng)先的8英寸碳化硅襯底工藝和技術(shù)

CASA正式發(fā)布《8英寸碳化硅襯底片基準(zhǔn)標(biāo)記及尺寸》等3項(xiàng)團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)

世界最好水平！奧趨光電推出新一代超高透過(guò)率AlN單晶襯底

中國(guó)臺(tái)灣首顆8英寸SiC襯底問(wèn)世！富士康版圖再擴(kuò)大

青島華芯晶元第三代半導(dǎo)體化合物晶片襯底項(xiàng)目封頂

青禾晶元天津復(fù)合襯底產(chǎn)線在濱海高新區(qū)正式通線

青禾晶元獲2.2億元A++輪融資用于建設(shè)鍵合集成襯底量產(chǎn)線

晶盛機(jī)電：已掌握8英寸碳化硅襯底技術(shù)和工藝

晶盛機(jī)電：公司已掌握行業(yè)領(lǐng)先的8英寸碳化硅襯底技術(shù)和工藝

簡(jiǎn)述碳化硅襯底制備的重點(diǎn)與難點(diǎn)

合盛硅業(yè)：目前2萬(wàn)片寬禁帶半導(dǎo)體碳化硅襯底及外延片產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)線項(xiàng)目已通過(guò)驗(yàn)收，實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)

盛美上海首次獲得Ultra C SiC 碳化硅襯底清洗設(shè)備采購(gòu)訂單

天成半導(dǎo)體：從事高質(zhì)量碳化硅襯底生產(chǎn)

三安光電：碳化硅襯底已批量銷售，汽車客戶合作獲重大突破

湖南三安：碳化硅襯底已實(shí)現(xiàn)批量銷售，汽車客戶合作取得重大突破

國(guó)內(nèi)首批！銘鎵半導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)4英寸氧化鎵晶圓襯底技術(shù)突破

山東大學(xué)教授陳秀芳：大尺寸4H-SiC單晶擴(kuò)徑及襯底制備

華工科技2022年?duì)I收凈利雙增 SiC襯底外觀缺陷檢測(cè)設(shè)備實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代應(yīng)用

IFWS：碳化硅襯底材料生長(zhǎng)與加工及外延技術(shù)前沿研究

現(xiàn)場(chǎng)火爆！IFWS：氮化物襯底材料生長(zhǎng)與外延技術(shù)論壇召開(kāi)

簡(jiǎn)述Ir襯底上金剛石半導(dǎo)體異質(zhì)外延生長(zhǎng)技術(shù)與機(jī)理研究進(jìn)展

開(kāi)年重要碳化硅半導(dǎo)體論壇！直擊碳化硅襯底材料生長(zhǎng)與加工及外延技術(shù)前沿進(jìn)展

碳化硅襯底公司乾晶半導(dǎo)體完成億元Pre-A輪融資

東尼電子簽訂6 英寸碳化硅襯底合同總額6億元

IFWS 前瞻：氮化物襯底材料生長(zhǎng)與外延技術(shù)分會(huì)日程出爐

山東大學(xué)襯底倒角機(jī)采購(gòu)競(jìng)爭(zhēng)性磋商公告

超芯星半導(dǎo)體完成億元B輪融資 6英寸碳化硅襯底已量產(chǎn)

青禾晶元天津復(fù)合襯底產(chǎn)線投入使用

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