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2項(xiàng)AlN拋光片測(cè)試方法征求意見

日期:2025-02-07 閱讀:230
核心提示:2025年1月23日,由奧趨光電技術(shù)(杭州)有限公司牽頭起草的標(biāo)準(zhǔn)T/CASAS 053202X《氮化鋁晶片位錯(cuò)密度檢測(cè)方法 腐蝕坑密度測(cè)量法

 2025年1月23日,由奧趨光電技術(shù)(杭州)有限公司牽頭起草的標(biāo)準(zhǔn)T/CASAS 053—202X《氮化鋁晶片位錯(cuò)密度檢測(cè)方法 腐蝕坑密度測(cè)量法》、由中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所牽頭起草的標(biāo)準(zhǔn)T/CASAS 054—202X《氮化鋁晶片吸收系數(shù)測(cè)試方法》已完成征求意見稿的編制,正式面向聯(lián)盟成員單位征求意見,為期一個(gè)月。征求意見稿已經(jīng)由秘書處郵件發(fā)送至聯(lián)盟成員單位。非聯(lián)盟成員單位如有需要,可發(fā)郵件至casas@casa-china.cn 

T/CASAS 053—202X《氮化鋁晶片位錯(cuò)密度檢測(cè)方法 腐蝕坑密度測(cè)量法》描述了用擇優(yōu)化腐蝕技術(shù)測(cè)試氮化鋁拋光片中位錯(cuò)密度的方法,包括方法原理、儀器設(shè)備、測(cè)試條件、樣品、測(cè)試步驟、結(jié)果計(jì)算和測(cè)試報(bào)告。

本文件適用于拋光加工后位錯(cuò)密度小于10*7 個(gè)/cm2的氮化鋁拋光片位錯(cuò)密度的測(cè)試,適用于1英寸、2英寸、3英寸、4英寸直徑氮化鋁拋光片的測(cè)試。氮化鋁外延片可參照使用。

 T/CASAS 054—202X《氮化鋁晶片吸收系數(shù)測(cè)試方法》描述了氮化鋁(AlN)拋光片光吸收系數(shù)的測(cè)試方法,包括原理、儀器設(shè)備、測(cè)試條件、樣品、測(cè)試步驟、結(jié)果計(jì)算和測(cè)試報(bào)告。

本文件適用于氮化鋁拋光片的光學(xué)質(zhì)量控制和評(píng)估。氮化鋁外延片可參照使用。

(來(lái)源:第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)戰(zhàn)略聯(lián)盟

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