2024年4月8-11日，一年一度化合物半導體行業(yè)盛會——2024九峰山論壇暨中國國際化合物半導體產(chǎn)業(yè)博覽會（簡稱“JFSC＆CSE”）將于武漢光谷科技會展中心舉辦。新毅東（上海）科技有限公司將攜新品亮相本屆盛會，誠邀業(yè)界同仁蒞臨3T19展臺參觀、交流合作。
本屆CSE博覽會由第三代半導體產(chǎn)業(yè)技術創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟、九峰山實驗室共同主辦，以“聚勢賦能 共赴未來”為主題，將匯集全球頂尖的化合物半導體制造技術專家、行業(yè)領袖和創(chuàng)新者，采用“示范展示+前沿論壇+技術與商貿(mào)交流”的形式，為產(chǎn)業(yè)鏈的升階發(fā)展搭建供需精準對接平臺，助力企業(yè)高效、強力拓展目標客戶資源，加速驅(qū)動中國化合物半導體產(chǎn)業(yè)鏈的完善和升級。
CSE作為2024年首場國際化合物半導體產(chǎn)業(yè)博覽會得到了多方力量的大力支持，三大主題展區(qū)，六大領域，將集中展示各鏈條關鍵環(huán)節(jié)的新技術、新產(chǎn)品、新服務，將打造化合物半導體領域的標桿性展會。助力打造全球化合物半導體平臺、技術、產(chǎn)業(yè)的燈塔級盛會，集中展示化合物半導體上下游全產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)品，搭建企業(yè)發(fā)布年度新產(chǎn)品新技術的首選平臺，支撐產(chǎn)業(yè)鏈及中部地區(qū)建設具有全球影響力的萬億級光電子信息產(chǎn)業(yè)集群。
新毅東（上海）科技有限公司（以下簡稱“BNE”）成立于2014年3月，公司總部坐落于上海浦東臨港新片區(qū)，是一家提供半導體高端裝備系統(tǒng)解決方案的高新技術企業(yè)。BNE致力于光刻機、涂膠顯影機及高端濕法設備的研發(fā)及生產(chǎn)，積極引入海外成熟的產(chǎn)品與技術，具備為客戶提供相關設備的制程整合及解決方案。核心產(chǎn)品廣泛應用于集成電路、化合物半導體、微機電系統(tǒng)、光通信及照明等重要領域。與此同時BNE與中芯國際、燕東微電子、三安光電等半導體業(yè)界眾多龍頭企業(yè)保持良好的合作，積累了豐富的應用端的技術經(jīng)驗，培養(yǎng)了具有專業(yè)素質(zhì)的技術開發(fā)及服務團隊。主營業(yè)務：涂膠顯影設備、高端濕法設備的研發(fā)和生產(chǎn)；光刻再制造、涂膠顯影再制造；半導體設備零部件研發(fā)替代及相關技術服務。
產(chǎn)品介紹
光刻機再制造設備
致力于Nikon、Canon系列等光刻設備的再制造，產(chǎn)品應用領域覆蓋集成電路、合物半導體、微機電系統(tǒng)、光通信及照明等。
Nikon系列產(chǎn)品
Nikon G線光刻機，光源波長436nm，投影比例5:1，分辨率0.65µm，適用于2/4/6英寸生產(chǎn)線；
Nikon i線步進投影式光刻機，光源波長365nm，投影比例5:1，分辨率0.6~0.35µm，適用于2/4/6/8英寸生產(chǎn)線；
Nikon SF掃描式光刻機系列，光源波長365nm，投影比例4:1，分辨率0.28~0.35µm，適用于4/6/8/12英寸生產(chǎn)線；
Nikon KrF掃描式光刻機及Nikon EX系列，光源波長248nm，投影比例4:1，分辨率0.25~0.11µm，適用于4/6/8/12英寸生產(chǎn)線；
Nikon ArF掃描式光刻機，波長193nm，投影比例4:1，分辨率優(yōu)于0.07µm，適用于8英寸及12英寸生產(chǎn)線。
Canon系列產(chǎn)品
Canon i線光刻機，波長365nm，投影比例5:1，分辨率0.5µm-0.35µm。適用于4/6/8英寸范圍生產(chǎn)線。
Canon KrF光刻機，波長248nm，投影比例4:1，分辨率0.25µm~0.13µm。適用于4/6/8/12英寸范圍生產(chǎn)線。
高端濕法設備
槽式清洗設備XW3000系列
槽式清洗設備XW3000系列，可用于RCA清洗，濕法去膠，介質(zhì)層濕法刻蝕，金屬層濕法刻蝕，爐管前清洗以及其它特殊工藝清洗需求。設備采用模塊化設計，可依照客戶不同化學藥液及工藝需求定制化設計。
適用制程：Etch, PR Strip, Wafer Clean, Plating
應用領域：半導體先進封裝、2.5D/3DIC封裝、化合物半導體、硅晶圓制造、SiC晶圓制造、MOSFET晶圓后段制程（BGBM）、車用二極管、石英元件、CIS光學元件。
單芯片清洗設備XS5000系列
適用制程：Etch, PR Strip, Wafer Clean, Flux Clean, Mask Clean
應用領域：半導體先進封裝、2.5D/3DIC封裝、化合物半導體、硅晶圓制造、SiC晶圓制造、MOSFET晶圓后段制程（BGBM）、車用二極管、石英元件、CIS光學元件。
涂膠顯影設備
BNE TC1500涂膠顯影off line設備
BNE TC2000涂膠顯影設備
聯(lián)系方式：
地址：上海市浦東新區(qū)飛渡路1568號C5幢
電話：021-5088 0328
郵箱：sales@bjnewestech.com
微信公眾號：新毅東
值此之際，我們誠邀業(yè)界同仁共聚本屆盛會，蒞臨展位現(xiàn)場參觀交流、洽談合作。
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