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西安衛(wèi)光科技李樸:600V超結(jié)MOSFET器件研究

日期:2023-08-01 閱讀:341
核心提示:近日,2023功率與光電半導體器件設計及集成應用論壇于西安召開。論壇由第三代半導體產(chǎn)業(yè)技術創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)指導,西安交通

 近日,“2023功率與光電半導體器件設計及集成應用論壇”于西安召開。論壇由第三代半導體產(chǎn)業(yè)技術創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)指導,西安交通大學、極智半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)(www.huizhouyinshua.cn)、第三代半導體產(chǎn)業(yè)主辦,西安電子科技大學、中國科學院半導體研究所、第三代半導體產(chǎn)業(yè)技術創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟人才發(fā)展委員會、全國半導體應用產(chǎn)教融合(東莞)職業(yè)教育集團聯(lián)合組織、西安和其光電股份有限公司等單位協(xié)辦。

李樸

期間,“平行論壇1:功率半導體器件設計及集成應用”上,西安衛(wèi)光科技有限公司器件研究中心工程師李樸帶來《600V超結(jié)MOSFET器件研究》的主題報告。詳細分享了600V 超結(jié)MOSFET研究過程與成果。

隨著功率半導體應用領域逐漸擴大,當應用在計算機和航空電子等領域中時,低導通壓降能夠縮小整機的冷卻系統(tǒng),從而降低整機尺寸和成本,所以用戶對器件的導通電阻提出了更高的要求。而傳統(tǒng)功率MOSFET中擊穿電壓與導通電阻的關系,始終被限制在了“硅限”2.5次方,難以克服。為了能突破發(fā)展瓶頸,“超結(jié)理論”應運而生,極大的推動了功率半導體的發(fā)展。基于超結(jié)理論的器件能夠在保證擊穿電壓的同時,進一步提高N柱區(qū)摻雜濃度,從而減小通態(tài)電阻,將擊穿電壓與通態(tài)電阻的限制關系優(yōu)化到1.3次方。

CASICON 系列活動簡介

 “先進半導體產(chǎn)業(yè)大會(CASICON)” 由【極智半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)】主辦,每年在全國巡回舉辦的行業(yè)綜合活動。活動聚焦先進半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展熱點,聚合產(chǎn)業(yè)相關各方訴求,通過“主題會議+項目路演+展覽”的形式,促進參與各方交流合作,積極推動產(chǎn)業(yè)發(fā)展。CASICON 系列活動將以助力第三代半導體產(chǎn)業(yè)為己任,聯(lián)合實力資源,持續(xù)輸出高質(zhì)量的活動內(nèi)容,搭建更好的交流平臺,為產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻應盡的力量。

(備注:以上信息僅根據(jù)現(xiàn)場整理未經(jīng)嘉賓本人確認,僅供參考?。?/p>

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