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　　青島精誠華旗微電子設備有限公司是專業(yè)的半導體工藝設備及先進材料專用設備研發(fā)、制造廠家。致力于為半導體、高新材料提供先進的專用設備，工藝涵蓋擴散、氧化、退火、合金、薄膜淀積（氮化硅、氧化硅、多晶硅等）、外延、燒結(jié)等工藝。精誠華旗擁有十幾年的專業(yè)研發(fā)制造經(jīng)驗、半導體工藝設備覆蓋一、二、三代半導體材料-硅、砷化鎵、氮化鎵等等。產(chǎn)品服務廣泛應用于行業(yè)內(nèi)的大專院校、科研院所、半導體制造企業(yè)工廠等。主要產(chǎn)品有:4"-8"擴散爐系列,LPCVD系統(tǒng),PECVD系統(tǒng),VPE系統(tǒng),擴散爐爐體系列及真空爐系列。4"-8"

先普半導體技術(上海)有限公司是經(jīng)上海市認定的外資高新技術企業(yè)。公司引進國際先進的純化技術和設計生產(chǎn)理念，研發(fā)和生產(chǎn)各類終端氣體純化器與寬廣流量范圍的氣體純化設備。產(chǎn)品廣泛應用于電子，光電，光纖，光伏，化工，醫(yī)藥等領域。 公司自2004年成立以來，在充分掌握國際先進氣體純化核心技術的基礎上，通過不斷的研究創(chuàng)新，自主開發(fā)了十幾個系列上百種產(chǎn)品，純度可提供9N、7N兩種級別，其中壓力范圍從1.0MPa的常壓到24MPa的高壓，流量范圍從幾百毫升每分鐘到上萬立方米每小時。 先普的氣體純化產(chǎn)品既可以為晶體生長

東莞市中鎵半導體科技有限公司為中國國內(nèi)首家專業(yè)生產(chǎn)氮化鎵（GaN）襯底材料的企業(yè)。公司經(jīng)營范圍包括設計、研發(fā)及產(chǎn)銷：半導體材料、器件、生產(chǎn)設備等。其創(chuàng)造性地采用MOCVD技術、激光剝離技術、HVPE技術相結(jié)合的方法，研發(fā)、生產(chǎn)產(chǎn)品包括：GaN半導體襯底材料，包括GaN襯底，GaN/Al2O3復合襯底，圖形化藍寶石襯底（PSS）；生產(chǎn)上述產(chǎn)品的設備，如激光剝離設備等。并對相應技術擁有自主知識產(chǎn)權，使企業(yè)在國內(nèi)國際競爭中處于一個優(yōu)勢位置。