據(jù)日媒報道，佳能（Canon）位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于9月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝與成熟制程市場提供更多設(shè)備產(chǎn)能支持。

據(jù)悉，這座新工廠是佳能在2023年開始動工建設(shè)的，并可能使用自家開發(fā)的Nanoimprint（納米壓?。┘夹g(shù)，總投資額超過500億日元，涵蓋廠房與先進制造設(shè)備。新廠面積達6.75萬平方公尺，投產(chǎn)后將使光刻設(shè)備總產(chǎn)能提升50%。

佳能董事長兼CEO Fujio Mitarai表示：“新工廠生產(chǎn)的設(shè)備匯集了佳能所有的技術(shù)實力。”

有報道稱，佳能重新關(guān)注成熟設(shè)備的原因在于生成式AI的熱潮。隨著電路微型化正接近極限，佳能發(fā)現(xiàn)此前用于前端的光刻設(shè)備可以用來形成中介層布線，于2011年率先推出用于后端工藝的光刻設(shè)備。時至今日，佳能仍幾乎擁有所有主要半導(dǎo)體制造商用于后端工藝的光刻設(shè)備。