據(jù)日本沖繩科學技術大學院大學（OIST）官網(wǎng)最新報告，該校設計了一種極紫外（EUV）光刻技術，超越了半導體制造業(yè)的標準界限。基于此設計的光刻設備可采用更小的EUV光源，其功耗還不到傳統(tǒng)EUV光刻機的十分之一，從而降低成本并大幅提高機器的可靠性和使用壽命。（科技日報）