瑞典查爾姆斯理工大學(xué)副教授Jie SUN帶來(lái)了關(guān)于GaN光電器件CVD石墨烯透明電極研究進(jìn)展，讓與會(huì)代表拍手稱贊！ 石墨烯傳統(tǒng)上是通過(guò)石墨機(jī)械剝落制備的，且大面積單層石墨烯的制備很有挑戰(zhàn)性。為此，化學(xué)氣相沉積（CVD）在過(guò)渡金屬上石墨烯最近被發(fā)展。自2009年以來(lái)，在Chalmers我們已經(jīng)在金屬箔（Cu，Pt，Ta等）上生長(zhǎng)了單層石墨烯，在硅襯底上蒸鍍了金屬薄膜.9-9 CH4或C2H2作為反應(yīng)物，石墨烯通過(guò)商業(yè)直冷式Aixtron系統(tǒng)生長(zhǎng)。通過(guò)濕化學(xué)法蝕刻銅或更環(huán)保的電化學(xué)氣泡分層，石墨烯可以轉(zhuǎn)移到