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專題嚴(yán)選
2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會

2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會

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2025年9月26-28日,為更好的推動我國在新一代大尺寸半導(dǎo)體材料技術(shù)及應(yīng)用的學(xué)術(shù)及產(chǎn)業(yè)交流與合作,在第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)、中關(guān)村半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(CSA)指導(dǎo)下,由賽迪智庫集成電路研究所、中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所、云南大學(xué)、昆明理工大學(xué)等單位支持,云南臨滄鑫圓鍺業(yè)股份有限公司、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)聯(lián)合主辦,云南鑫耀半導(dǎo)體材料有限公司、北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進(jìn)中心有限公司共同承辦——“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會“,會議將圍繞新一代大尺寸半導(dǎo)體材料在功率半導(dǎo)體大規(guī)模制造過程中,關(guān)鍵工藝及裝備、器件設(shè)計與制造、關(guān)鍵材料、綠色廠務(wù)及產(chǎn)品開發(fā)與創(chuàng)新應(yīng)用,邀請產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)專家、高??蒲性核爸髽I(yè)代表共同深入探討,探尋功率半導(dǎo)體最新技術(shù)進(jìn)展,分享生產(chǎn)制造過程中全流程優(yōu)化方案,共促功率半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展。

大會報道

2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會昆明盛大開幕

9月27日,2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會在昆明開幕。

2025云南晶體大會|聚焦鍺及化合物半導(dǎo)體晶體材料最新進(jìn)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”于昆明召開。“鍺及化合物半導(dǎo)體晶體材料”分論壇圍繞鍺、氮化鎵、碳化硅襯底外延、材料制備、工藝優(yōu)化等主題,來自產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)專家、高??蒲性核爸髽I(yè)二十余位代表共同深入探討,追蹤最新進(jìn)展。

2025云南晶體大會|追蹤光電子、射頻及應(yīng)用發(fā)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”于昆明召開。期間,“光電子、射頻及應(yīng)用”分論壇圍繞超寬禁帶及寬禁帶半導(dǎo)體外延材料、裝備、器件,激光器,光電探測等主題,來自產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)專家、高??蒲性核爸髽I(yè)二十余位代表共同深入探討。

路明科技集團(tuán)肖志國:稀土發(fā)光材料與半導(dǎo)體發(fā)光芯片技術(shù)突破與前沿進(jìn)展

 “2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”于云南昆明舉辦。期間,路明科技集團(tuán)有限公司總工程師、華夏芯智慧光子科技(北京)有限公司首席科學(xué)家肖志國做了《固體發(fā)光技術(shù)引領(lǐng)產(chǎn)業(yè)變革》的主題報告,分享了固體發(fā)光技術(shù)引發(fā)的變革、成果與研究進(jìn)展。

報告前瞻

2025云南晶體大會前瞻|廈門大學(xué)林光楊:硅基IV族半導(dǎo)體材料異質(zhì)集成及其光電器件

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,廈門大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院助理教授林光楊受邀將出席會議,并帶來《硅基IV族半導(dǎo)體材料異質(zhì)集成及其光電器件》的主題報告,分享最新相關(guān)趨勢,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|中國電子科技集團(tuán)孫強(qiáng):砷化鎵高效多結(jié)太陽電池技術(shù)和應(yīng)用進(jìn)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,中國電子科技集團(tuán)首席專家、中國電子科技集團(tuán)公司第十八研究所副總工程師孫強(qiáng)將受邀出席論壇,并帶來《砷化鎵高效多結(jié)太陽電池技術(shù)和應(yīng)用進(jìn)展》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|山東大學(xué)張雷 :大尺寸氮化鎵和氮化鋁晶體生長研究新進(jìn)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,山東大學(xué)新一代半導(dǎo)體材料研究院教授張雷將出席會議,并帶來《大尺寸氮化鎵和氮化鋁晶體生長研究新進(jìn)展》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|北方華創(chuàng)楊牧龍:化合物半導(dǎo)體外延設(shè)備及工藝解決方案

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,北方華創(chuàng)微電子化合物外延部門負(fù)責(zé)人楊牧龍將出席會議,并帶來《化合物半導(dǎo)體外延設(shè)備及工藝解決方案》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|甬江實驗室陳荔:氮化鋁半極性面外延調(diào)控及其在深紫外LED中的應(yīng)用

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,甬江實驗室副研究員陳荔將出席會議,并帶來《氮化鋁半極性面外延調(diào)控及其在深紫外LED中的應(yīng)用》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|山東大學(xué)楊祥龍:8/12英寸碳化硅單晶襯底材料的研究進(jìn)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,山東大學(xué)/教授、廣州南砂晶圓半導(dǎo)體技術(shù)有限公司/技術(shù)總監(jiān)楊祥龍將出席會議,并帶來《8/12英寸碳化硅單晶襯底材料的研究進(jìn)展》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|仕佳光子黃永光:CW DFB激光器研究進(jìn)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,河南仕佳光子科技股份有限公司副總經(jīng)理黃永光將出席會議,并帶來《CW DFB激光器研究進(jìn)展》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|北京大學(xué)王新強(qiáng):氮化物半導(dǎo)體的大失配外延及其器件研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,北京大學(xué)博雅特聘教授,北京大學(xué)東莞光電研究院院長王新強(qiáng)將受邀出席論壇,并帶來《氮化物半導(dǎo)體的大失配外延及其器件研究》的大會主旨報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|國家第三代半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新中心(蘇州)梁劍波:GaAs與Si及GaN的常溫異質(zhì)接合研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,江蘇第三代半導(dǎo)體研究院/國家第三代半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新中心(蘇州)異質(zhì)集成先進(jìn)技術(shù)研發(fā)中心梁劍波將受邀出席論壇,并帶來《GaAs與Si及GaN的常溫異質(zhì)接合研究》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|昆明物理研究所董衛(wèi)民:紅外探測用半導(dǎo)體單晶材料研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,昆明物理研究所高級工程師董衛(wèi)民將受邀出席論壇,并帶來《紅外探測用半導(dǎo)體單晶材料研究》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|?云南鍺業(yè)惠峰:鍺、三五族化合物半導(dǎo)體單晶生長技術(shù)和產(chǎn)業(yè)發(fā)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,云南鍺業(yè)首席科學(xué)家惠峰將受邀出席論壇,并帶來《鍺、三五族化合物半導(dǎo)體單晶生長技術(shù)和產(chǎn)業(yè)發(fā)展》的大會主旨報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|?山東大學(xué)陳秀芳:碳化硅單晶材料技術(shù)及應(yīng)用

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,山東大學(xué)特聘教授、晶體材料全國重點實驗室副主任陳秀芳將受邀出席論壇,并帶來《碳化硅單晶材料技術(shù)及應(yīng)用》的大會主旨報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|?鑫耀半導(dǎo)體劉漢保:基于VGF法的低氧含量半絕緣砷化鎵單晶生長工藝優(yōu)化及電學(xué)性質(zhì)研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,云南鑫耀半導(dǎo)體材料有限公司副總經(jīng)理劉漢保將受邀出席論壇,并帶來《基于VGF法的低氧含量半絕緣砷化鎵單晶生長工藝優(yōu)化及電學(xué)性質(zhì)研究》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|?廈門大學(xué)梅洋:GaN基VCSEL技術(shù)進(jìn)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,廈門大學(xué)助理教授梅洋將受邀出席論壇,并帶來《GaN基VCSEL技術(shù)進(jìn)展》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|?中國科學(xué)院半導(dǎo)體所沈桂英:InP、GaSb與InAs單晶生長、襯底制備及缺陷研究進(jìn)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所副研究員沈桂英將受邀出席論壇,并帶來《InP、GaSb與InAs單晶生長、襯底制備及缺陷研究進(jìn)展》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|?北京大學(xué)孫棟:外爾半導(dǎo)體Te--新一代中紅外半導(dǎo)體器件材料

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,北京大學(xué)/博雅特聘教授、鄭州大學(xué)/學(xué)科特聘教授孫棟將受邀出席論壇,并帶來《外爾半導(dǎo)體Te--新一代中紅外半導(dǎo)體器件材料》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|?中國科學(xué)院長春光機(jī)所蔣科:基于三族氮化物半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)的光憶阻器研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所研究員蔣科將受邀出席論壇,并帶來《基于三族氮化物半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)的光憶阻器研究》的大會主旨報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|中國科學(xué)院半導(dǎo)體所張韻:鎵體系半導(dǎo)體材料與集成電路發(fā)展展望

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所副所長、研究員、博士生導(dǎo)師張韻將受邀出席論壇,并帶來《鎵體系半導(dǎo)體材料與集成電路發(fā)展展望》的開幕大會主旨報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻| 劉紀(jì)美院士:用于集成的硅基III-V器件

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,香港科技大學(xué)講席教授,美國工程院外籍院士將受邀出席論壇,并帶來《用于集成的硅基III-V器件》的大會主旨報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|路明科技集團(tuán)肖志國:固體發(fā)光技術(shù)引領(lǐng)產(chǎn)業(yè)變革

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,路明科技集團(tuán)有限公司總工程師、華夏芯智慧光子科技(北京)有限公司首席科學(xué)家肖志國將受邀出席論壇,并帶來《固體發(fā)光技術(shù)引領(lǐng)產(chǎn)業(yè)變革》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|西安電子科技大學(xué)陶鴻昌:氧化鎵異質(zhì)外延成核調(diào)控及肖特基二極管(SBD)勢壘均勻性研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,西安電子科技大學(xué)集成電路學(xué)部助理研究員陶鴻昌將受邀出席論壇,并帶來《氧化鎵異質(zhì)外延成核調(diào)控及肖特基二極管(SBD)勢壘均勻性研究》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻| 富加鎵業(yè)陳端陽:氧化鎵單晶襯底及外延技術(shù)研發(fā)進(jìn)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,杭州富加鎵業(yè)科技有限公司外延器件部部長陳端陽將受邀出席論壇,并帶來《氧化鎵單晶襯底及外延技術(shù)研發(fā)進(jìn)展》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|中國科學(xué)院半導(dǎo)體所徐馳:從氣體源到器件:面向下一代信息技術(shù)的硅-鍺-錫類半導(dǎo)體全流程研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所研究員徐馳將受邀出席論壇,并帶來《從氣體源到器件:面向下一代信息技術(shù)的硅-鍺-錫類半導(dǎo)體全流程研究》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|同光半導(dǎo)體王巍:挑戰(zhàn)與機(jī)遇并存 -- 碳化硅材料市場發(fā)展現(xiàn)狀及展望

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,河北同光半導(dǎo)體股份有限公司副總經(jīng)理王巍將受邀出席論壇,并帶來《挑戰(zhàn)與機(jī)遇并存--碳化硅材料市場發(fā)展現(xiàn)狀及展望》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|云南大學(xué)王茺:GaSb基異質(zhì)薄膜的磁控濺射生長機(jī)理及其光電探測性能研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,云南大學(xué)材料與能源學(xué)院(研究員,云南省重點實驗室副主任)、云南中科鑫圓晶體材料有限公司科技副總經(jīng)理王茺受邀將出席會議,并帶來《GaSb基異質(zhì)薄膜的磁控濺射生長機(jī)理及其光電探測性能研究》的主題報告,分享最新相關(guān)趨勢,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|云南臨滄鑫圓鍺業(yè)包世濤:中國鍺產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀與高質(zhì)量發(fā)展路徑展望

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,云南臨滄鑫圓鍺業(yè)股份有限公司COO包世濤將受邀出席論壇,并帶來了《中國鍺產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀與高質(zhì)量發(fā)展路徑展望》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|西安電子科技大學(xué)寧靜:超寬禁帶半導(dǎo)體范德華異質(zhì)結(jié)構(gòu)及器件研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,西安電子科技大學(xué)集成電路學(xué)部教授寧靜將受邀出席論壇,并帶來了《超寬禁帶半導(dǎo)體范德華異質(zhì)結(jié)構(gòu)及器件研究》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|浙江大學(xué)杭州國際科創(chuàng)中心韓學(xué)峰:PVT法生長4H-SiC晶體的缺陷形成與摻雜機(jī)理研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,浙江大學(xué)杭州國際科創(chuàng)中心科創(chuàng)百人計劃研究員韓學(xué)峰將受邀出席論壇,并帶來了《PVT法生長4H-SiC晶體的缺陷形成與摻雜機(jī)理研究》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|天科合達(dá)劉春?。捍蟪叽缣蓟枰r底和外延產(chǎn)業(yè)進(jìn)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,北京天科合達(dá)半導(dǎo)體股份有限公司CTO劉春俊將受邀出席論壇,并帶來《大尺寸碳化硅襯底和外延產(chǎn)業(yè)進(jìn)展》的開幕大會主旨報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|云南師范大學(xué)郭杰:鍺硫?qū)倩衔颎e-VIA(GeS/GeSe/GeTe)二維材料的電子結(jié)構(gòu)和光學(xué)特性研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,云南師范大學(xué)副教授、昆明云鍺高新技術(shù)有限公司科技副總經(jīng)理郭杰將受邀出席論壇,并帶來《鍺硫?qū)倩衔颎e-VIA(GeS/GeSe/GeTe)二維材料的電子結(jié)構(gòu)和光學(xué)特性研究》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|昆明云鍺李寶學(xué):大尺寸紅外鍺單晶的研究進(jìn)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,昆明云鍺高新技術(shù)有限公司總經(jīng)理李寶學(xué)將受邀出席論壇,并帶來《大尺寸紅外鍺單晶的研究進(jìn)展》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|鑫耀半導(dǎo)體韋華:VGF法磷化銦熱場優(yōu)化控制對單晶缺陷形成的影響

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,云南鑫耀半導(dǎo)體材料有限公司技術(shù)副總經(jīng)理韋華將受邀出席論壇,并帶來《VGF法磷化銦熱場優(yōu)化控制對單晶缺陷形成的影響》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|云南大學(xué)楊杰:III-V族和IV族半導(dǎo)體晶片及其外延材料的缺陷溯源分析

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,云南大學(xué)副研究員、云南臨滄鑫圓鍺業(yè)股份有限公司科技副總經(jīng)理楊杰將受邀出席論壇,并帶來《III-V族和IV族半導(dǎo)體晶片及其外延材料的缺陷溯源分析》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|北京大學(xué)王嘉銘:III族氮化物AlGaN基紫外發(fā)光器件結(jié)構(gòu)堆垛研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,北京大學(xué)特聘副研究員王嘉銘將受邀出席論壇,并帶來《III族氮化物AlGaN基紫外發(fā)光器件結(jié)構(gòu)堆垛研究》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|中電科第四十八研究所謝添樂:寬禁帶化合物半導(dǎo)體外延關(guān)鍵裝備解決方案

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,中國電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所工藝負(fù)責(zé)、高級工程師謝添樂將受邀出席論壇,并帶來《寬禁帶化合物半導(dǎo)體外延關(guān)鍵裝備解決方案》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|廣東工業(yè)大學(xué)張紫輝:GaN功率半導(dǎo)體器件仿真建模與制備研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,廣東工業(yè)大學(xué)教授、博士生導(dǎo)師張紫輝將受邀出席論壇,并帶來《GaN功率半導(dǎo)體器件仿真建模與制備研究》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|廈門大學(xué)盧衛(wèi)芳:GaN/InGaN基核-殼納米結(jié)構(gòu)選區(qū)外延及其Micro-LED器件制備研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,廈門大學(xué)副教授盧衛(wèi)芳將受邀出席論壇,并帶來《GaN/InGaN基核-殼納米結(jié)構(gòu)選區(qū)外延及其Micro-LED器件制備研究》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻|云南大學(xué)邱鋒:晶體本征缺陷的理論研究及晶片表面非故意缺陷的性能調(diào)控

 超高遷移率及界面調(diào)控是超純單晶材料及高速光電器件的關(guān)鍵品質(zhì)因子。然而,單晶本征缺陷的識別與抑制科學(xué)是單晶生長的關(guān)鍵科學(xué)問題;非故意摻雜引入的多種散射機(jī)制往往會嚴(yán)重削弱遷移率性能,不可控的界面工程也頻繁導(dǎo)致器件失效。

2025云南晶體大會前瞻|云南大學(xué)史衍麗:1550nm InP/InGaAs 單光子探測器

 InP/InGaAs短波紅外單光子探測器(SPAD)是目前較為成熟而獲得廣泛應(yīng)用的單光子探測器,也是目前1550 nm通信波段主流的單光子探測技術(shù),具有性能好、體積小、方便安裝和攜帶的應(yīng)用優(yōu)勢;同時,基于常規(guī)半導(dǎo)體二極管的芯片制造工藝很容易實現(xiàn)大面陣單光子陣列,除了探測信號,還具備三維數(shù)字成像功能。國內(nèi)外包括美國、瑞士、意大利、韓國等對InP/InGaAs SPAD進(jìn)行了長期持續(xù)的研究,其單光子探測器陣列呈現(xiàn)了清晰的三維成像效果。    

2025云南晶體大會前瞻|南京大學(xué)修向前:氮化鎵襯底生長工藝及設(shè)備技術(shù)研究

 寬禁帶半導(dǎo)體氮化鎵具有優(yōu)異的物理和化學(xué)特性,被廣泛研究和應(yīng)用于光電和功率電子器件及紫外探測器件等。氮化鎵單晶是制備高性能器件最理想的襯底材料。本報告系統(tǒng)介紹了鹵化物氣相外延(HVPE)制備高質(zhì)量GaN襯底的關(guān)鍵技術(shù)及發(fā)展趨勢。

2025云南晶體大會前瞻|連科半導(dǎo)體胡動力:8/12吋碳化硅長晶爐技術(shù)進(jìn)展及發(fā)展方向

 連城數(shù)控半導(dǎo)體裝備事業(yè)部/連科半導(dǎo)體有限公司總經(jīng)理胡動力受邀將出席會議,并帶來《8/12吋碳化硅長晶爐技術(shù)進(jìn)展及發(fā)展方向》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025晶體大會前瞻|云南大學(xué)王茺:GaSb基異質(zhì)薄膜的磁控濺射生長機(jī)理及其光電探測性能研究

云南大學(xué)材料與能源學(xué)院(研究員、云南省重點實驗室副主任)、云南中科鑫圓晶體材料有限公司科技副總經(jīng)理王茺受邀將出席會議,并帶來《GaSb基異質(zhì)薄膜的磁控濺射生長機(jī)理及其光電探測性能研究》的主題報告,分享最新研究成果,敬請關(guān)注!

2025云南晶體大會前瞻| 昆明理工大學(xué)鄧家云:磷化銦晶圓力學(xué)性能與加工性能研究

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,昆明理工大學(xué),校聘副教授,碩導(dǎo);云南臨滄鑫圓鍺業(yè)股份有限公司,在職博士后鄧家云受邀將出席會議,并帶來《磷化銦晶圓力學(xué)性能與加工性能研究:理論計算、分子動力學(xué)仿真、實驗驗證》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025晶體大會前瞻|中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所楊曉光:硅基III-V族材料外延及異質(zhì)集成研究進(jìn)展

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于云南昆明舉辦。屆時,中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所研究員楊曉光受邀將出席會議,并帶來《硅基III-V族材料外延及異質(zhì)集成研究進(jìn)展》的主題報告,敬請關(guān)注!

2025晶體大會前瞻|中國電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究院解楠:氮化鋁寬禁帶材料發(fā)展現(xiàn)狀及技術(shù)演進(jìn)趨勢研究

中國電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究院集成電路研究所化合物半導(dǎo)體與分立器件研究室主任解楠受邀將出席會議,并帶來《氮化鋁寬禁帶材料發(fā)展現(xiàn)狀及技術(shù)演進(jìn)趨勢研究》的主題報告,分享最新相關(guān)趨勢,敬請關(guān)注! 

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9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦,云南臨滄鑫圓鍺業(yè)股份有限公司將攜最新產(chǎn)品方案亮相本次學(xué)術(shù)盛會(展位號:S04)。

邀請函|特思迪邀您共赴2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。北京特思迪半導(dǎo)體設(shè)備有限公司將攜最新產(chǎn)品方案亮相本次學(xué)術(shù)盛會(展位號:S07)。

邀請函|北方華創(chuàng)邀您共赴2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司將攜最新產(chǎn)品方案亮相本次盛會(展位號:S05)。

邀請函|中電科四十八所邀您共赴2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,中國電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所將亮相本次盛會(展位號:S03)。

邀請函|路明科技集團(tuán)邀您共赴2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,路明科技集團(tuán)有限公司/華夏芯智慧光子科技(北京)有限公司將亮相本次盛會(展位號:S22)。

邀請函|三禾泰達(dá)邀您共赴2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,北京三禾泰達(dá)技術(shù)有限公司將攜最新產(chǎn)品方案亮相本次盛會(展位號:S08)。

邀請函|鑫耀半導(dǎo)體邀您共赴2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,云南鑫耀半導(dǎo)體材料有限公司將攜最新產(chǎn)品方案亮相本次盛會(展位號:S15)。

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9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,國家第三代半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新中心(蘇州)將亮相本次盛會(展位號:S16)。

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9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,藍(lán)河科技(紹興)有限公司將攜最新產(chǎn)品方案亮相本次盛會(展位號:S06)。

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9月26-28日,2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會將在云南昆明舉辦。山東華光邀您共赴大會,深入的交流與探討。

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9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,廣州南砂晶圓半導(dǎo)體技術(shù)有限公司將攜最新產(chǎn)品方案亮相本次盛會(展位號:S10)。

邀請函|博宏源邀您共赴2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。屆時,蘇州博宏源設(shè)備股份有限公司將攜最新產(chǎn)品方案亮相本次盛會(展位號:S17)。值此,誠摯邀請行業(yè)專家學(xué)者、業(yè)界同仁蒞臨現(xiàn)場,進(jìn)行深入的交流與探討。

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鑫耀半導(dǎo)體/南砂晶圓/天科合達(dá)/同光股份/晶鎵/富加鎵業(yè)/特思迪/藍(lán)河科技/三禾泰達(dá)/博宏源等邀您共聚2025云南晶體大會!

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云南鍺業(yè)/北方華創(chuàng)/仕佳光子/中國電科/華光光電/連城數(shù)控等企業(yè)邀共聚2025云南晶體大會!

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北大/山大/西電/廈大/浙大/港科大/復(fù)旦/西交大/南大/云大/云師大等高校專家邀共聚2025云南晶體大會!

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參會提醒|2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會9月26-28日云南昆明召開!

  9月26-28日,2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會將在云南昆明舉辦。

倒計時3天!2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會即將在昆明啟幕!

倒計時3天!9月26-28日,2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會將在云南昆明舉辦。大會設(shè)有:開幕大會及主旨報告,以及鍺及化

半導(dǎo)體所/長光所/國創(chuàng)中心(蘇州)/中電科48所&18所/昆明物理所/甬江實驗室/賽迪研究院等專家邀共聚2025云南晶體大會!

半導(dǎo)體所/長光所/國創(chuàng)中心(蘇州)/中電科48所&18所/昆明物理所/甬江實驗室/賽迪研究院等專家邀共聚2025云南晶體大會!

2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會將于9月26-28日在昆明召開

9月26-28日,2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會將在云南昆明舉辦。

報告搶先看|“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將于9月昆明召開

9月26-28日,“2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會”將在云南昆明舉辦。

會議通知 | 2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會將于9月云南舉辦!

2025年9月26-28日,2025新一代半導(dǎo)體晶體材料技術(shù)及應(yīng)用大會將在昆明億壕城堡溫德姆至尊酒店舉辦。誠摯邀請邀請產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)專家、高??蒲性核爸髽I(yè)代表共同深入探討,探尋功率半導(dǎo)體最新技術(shù)進(jìn)展,分享生產(chǎn)制造過程中全流程優(yōu)化方案,共促功率半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展。

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